コーネル大学の研究者、クリプトンガススパッタリングでタンタル量子ビットの成膜温度を200℃に低下

コーネル大学のヴァラ・ファテミ助教授率いる研究チームは、タンタル系超伝導量子ビットの低温作製プロセスを開発し、超伝導量子プロセッシングユニット（QPU）の製造における主要なボトルネックを解消しました。この成果は、学術誌『Nature Materials』に掲載された論文（「スケーラブルで高性能な量子デバイスのためのクリプトンスパッタリングタンタル膜」）で詳述されています。研究チームは、マグネトロンスパッタリング中に標準的なアルゴンガスをクリプトンガスに置き換えることで、シリコン上の体心立方（α相）タンタルの基板成膜に必要な温度を400℃超から200℃にまで低下させました。